cn

技术能力

镀膜类型

高反射镀膜
增透膜
部分反射镀膜
波段分离镀膜
宽波段镀膜
偏振镀膜

可选的镀膜技术

Magnetron Sputtering

磁控溅射镀膜

优势

  • 容量大——批量生产的最佳解决方案
  • 单价比IBS镀膜的方式低
  • 大部分膜层性能与IBS镀膜的性能相同——散射和吸收率低
  • 膜层压力小于IBS镀膜的膜层压力
  • 非常适合对不同形状和尺寸的基片进行定制

劣势

  • 量少的话镀膜成本较高
  • 此种方式的紫外镀膜正在研发

Ion Beam Sputtering

离子束溅射

优势

  • 镀膜的光谱精准度高
  • 散射和吸收率低
  • 在可见光到红外范围内实现最高的激光损伤阈值
  • 在极端环境(太空,国防应用)中具有出色的稳定性和良好的性能
  • 通过补偿镀膜来控制应力

劣势

  • 成本偏高

Ion Assisted Deposition

离子辅助沉淀

优势

  • 离子辅助沉淀或等离子辅助沉淀可选
  • 对温度和湿度不太敏感
  • 膜层压力较低(由源参数控制)
  • 通过应力控制实现性价比

劣势

  • 可选的镀膜材料有限

Electron Beam Evaporation

电子束蒸发

优势

  • 镀膜范围较广- 从中紫外到红外
  • 沉积率高
  • 内部压力低
  • 性价比高

劣势

  • 对于环境的湿度和温度变化较为敏感
磁控溅射离子束溅射离子辅助沉淀电子束蒸发
光谱范围从可见光到红光B从中紫光到红光B从中紫光到红光B从中紫光到红光B
沉积速率2-6 埃/秒1-3 埃/秒1-5 埃/秒>5 埃/秒
每次镀膜1英寸基片数量518 pcs.53 pcs.90 pcs.90 pcs.
热导率中等
处理温度范围20-200 °C20-100 °C20-100 °C200-300 °C
密度稀疏稀疏紧密多孔
耐久性极佳极佳偏好
对湿度敏感性影响极小
老化影响影响极小
镀膜精准度中等
1064纳米最高反射率>99.96 %>99.99 %99.9 %99.5-99.8 %
内部压力200-400 MPa300-600 MPa~100 MPa<100 MPa

镀膜性能光谱图

光机位工程

  • 根据不同应用要求,可单独定制光机位系统
  • 定制产品最快6周交付
  • 可移动的透镜系统,指向稳定性可达<0.1 mrad
  • 透镜移速最高可达3 m/s
  • 可兼容紫外应用
  • 光机位设计通过SolidWorks完成

光学装配

  • 客户定制产品的装配(光学设计+机械设计)
  • 紫外和热粘合固化炉
  • 可提供激光雕刻
  • Laminars的洁净工作台

光学设计

  • 可针对客户的特殊应用进行光学系统研发
  • 采用实现高损伤阈值的设计
  • 设计由ZEMAX软件完成